1. <sub id="vewfi"><s id="vewfi"></s></sub>
    <xmp id="vewfi"><style id="vewfi"></style></xmp>
  2. 精品亚洲一区二区视频,国产精品欧美亚洲韩国日本久久,大伊香蕉精品一区二区,2014av天堂无码一区,中国普通话特级毛片,中文国产成人精品久久不卡,在线日本看片免费人成视久网,伊人天天久大香线蕉av色
    歡迎來界面科學儀器(北京)有限公司!咨詢接觸角測量儀相關產品信息!
    產品分類

    Product classification

    技術文章

    LAUDA Scientific光學接觸角測量儀特色之光學法測定CMC

    更新日期:2021-04-06      瀏覽次數:2339
      LAUDA Scientific光學接觸角測量儀特色之光學法測定CMC
     
      臨界膠束濃度(CMC)是用于測量和表征表面活性劑的重要參數,必須通過實驗來確定。德國LAUDA Scientific光學接觸角測量儀采用光學懸滴分析法測量臨界膠束濃度(CMC),LSA系列光學接觸角測量儀配備CMC擴展模塊,CMC擴展模塊主要由雙注射泵,一或兩個電磁攪拌器以及軟件包組成。測量可以*自動進行而無需監測。與傳統的基于力學天平法測量CMC相比,它提供了完美的全新測量方法和全自動測量設備,功能強大,操作簡單,可應用于科學研究、產品開發和工業生產。
     

    光學接觸角測量儀

     

    光學接觸角測量儀

     

     
     
      與傳統測量方法相比,LAUDA Scientific光學接觸角測量儀采用的光學懸滴分析法在準確性、可靠性、方便性和對包含各種表面活性劑的溶液的適用性,以及自動化程度方面,都具有明顯的優勢。
     
      基于光學懸滴分析法的CMC模塊的一些*功能:
     
      || 完美的適用于測量表面和界面張力;
     
      || 全自動,無需監測即可完成測量;
     
      || 可暫停、中斷,并繼續測量;
     
      || 終點濃度在測量完成后仍可擴展;
     
      || 適用于各種表面活性劑;
     
      || 一次測量即可確定靜態CMC以及動態CMC。
     
      技術參數 :
     
      表面/界面張力精度;準確度;測量范圍:0.01%; 0.1%;10-3 – 2000 mN/m.
     
      表面活性劑的濃度范圍:母液濃度0 –70%
     
      濃度節點數:無限制
     
      測量模式:靜態CMC,動態CMC
     
      測量時間長度:從大約30分鐘到幾個小時(取決于參數設置)
               ( 本文內容得到授權所有者的授權許可)
     

    Copyright © 2026 版權所有:界面科學儀器(北京)有限公司  ICP備案號:  管理登陸  技術支持:化工儀器網   總流量:385367  網站地圖

    在線交流 聯系方式 二維碼

    服務熱線

    010-68920269

    掃一掃,關注我們