浸漬提拉鍍膜儀

日本SDI株式會(huì)社成立于1997年，20多年來(lái)一直致力于鍍膜機(jī)、干燥劑、印刷電路板等的設(shè)計(jì)、開(kāi)發(fā)與生產(chǎn)，為此類(lèi)研究領(lǐng)域的客戶(hù)提供穩(wěn)定可靠的解決方案，SDI研發(fā)生產(chǎn)的浸漬提拉鍍膜機(jī)，性?xún)r(jià)比高，運(yùn)行穩(wěn)定，極大提高了實(shí)驗(yàn)效率與實(shí)驗(yàn)精度，可廣泛應(yīng)用于玻璃、亞克力、銅箔等的固體材料表面的鍍膜工藝。

浸漬提拉鍍膜儀工藝流程：

浸漬提拉鍍膜是將基材垂直浸入鍍膜溶液(溶膠)中浸漬，然后將基材從溶液中垂直低速提拉起來(lái)，并使附著的液膜在空氣（氣相）中凝膠的方法。

具體工藝流程如下：

1. 將基材垂直浸入鍍膜溶液（溶膠）中浸漬。
2. 利用鍍膜溶液的粘度、表面張力和重力之間的相互作用開(kāi)始提拉，提拉過(guò)程必須保證液面無(wú)振動(dòng)，且基材垂直、勻速、平穩(wěn)、連續(xù)上升，從而確保在基材表面形成連續(xù)、均勻的薄膜。
3. 基材的提拉速度與鍍膜溶液的粘度和附著液向下流動(dòng)的重力之間的關(guān)系，控制著鍍膜的厚度；
4. 形成均勻的薄膜，并完成“濕凝膠膜"向“干凝膠膜"的轉(zhuǎn)變。"干凝膠膜"經(jīng)過(guò)進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。

ND-0407-N1-CE浸漬提拉鍍膜儀

ND-0407-N1-CE是一款實(shí)驗(yàn)室/研發(fā)的超低速浸漬提拉鍍膜設(shè)備，X軸和ZX軸雙軸控制，具有提拉角度調(diào)節(jié)功能。它可以通過(guò)控制工作兩軸和θ角以及對(duì)角線提拉來(lái)調(diào)節(jié)提拉角度。

客戶(hù)的需求：

• 對(duì)基材進(jìn)行垂直、高精度、超低速鍍膜

• 以改變提拉角度和溶液的密度對(duì)基材進(jìn)行鍍膜

• 兩種液體交替對(duì)基材進(jìn)行鍍膜

• 在提拉途中，通過(guò)改變提拉速度來(lái)控制膜厚

能夠滿(mǎn)足客戶(hù)的需求：

• 可以提供超低速的常規(guī)垂直鍍膜

• 可以通過(guò)調(diào)整θ θ角來(lái)獲取提拉角度

• 可以采用不同的液體（例如交替吸附等）進(jìn)行鍍膜

• 雙軸可獨(dú)立運(yùn)動(dòng)和復(fù)合運(yùn)動(dòng)操作

• 具有可以連續(xù)點(diǎn)運(yùn)行的新功能

產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 可以對(duì)玻璃、有機(jī)玻璃、銅箔、管狀材料等基材以納米速度（變速單位：1nm）進(jìn)行浸漬鍍膜。

• 適用于納米級(jí)薄膜、蛋白石薄膜的形成和粒子陣列的生成等。

• 采用觸控面板操作方式，在觸控面板上，可以輕松完成設(shè)置速度變化點(diǎn)(多 16 個(gè)點(diǎn))、速度變化(以 1nm 為單位)、重復(fù)運(yùn)動(dòng)、運(yùn)動(dòng)模式記憶(多 8 個(gè)模式)的操作。

• 雙軸同步操作和單軸單獨(dú)運(yùn)行操作都可以輕松完成。

• 觸控面板采用日語(yǔ)、英語(yǔ)兩種語(yǔ)言，且可以一鍵式切換。

應(yīng)用：

• 主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。

技術(shù)參數(shù)：

※ 線性運(yùn)行模式是指改變速度時(shí)，停止時(shí)間為零秒。

※ 手動(dòng)運(yùn)行模式是指以設(shè)定的速度進(jìn)行上升/下降運(yùn)行（上升速度和下降速度的另一種設(shè)置）。